Proceso de delaminación de bajo coste para aislar grafeno de alta calidad

Investigadores españoles han desarrollado un nuevo proceso sencillo para aislar grafeno altamente cristalino y transferirlo desde el sustrato de carburo de silicio (SiC) en el que se ha hecho crecer a cualquier otro sustrato, como un dieléctrico para aplicaciones de dispositivos electrónicos. Este nuevo método de transferencia ha sido demostrado experimentalmente, presentando un buen rendimiento y reproducibilidad. El método de delaminado y transferencia se basa en el uso de obleas de SiC dopadas, que son más económicas que las obleas de SiC semiaislantes que se requieren a menudo, y no utiliza productos químicos tóxicos agudos. Los investigadores buscan productores de grafeno o SiC y fabricantes de dispositivos con el fin de explotar el know-how mediante un acuerdo de licencia de patente.
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