Litografía de nanoimpresión en obleas que reduce los pasos del proceso produciendo directamente una máscara de grabado o capa óptica funcional

Una spin-off holandesa está especializada en litografía de nanoimpresión, cuya ventaja más importante es la capacidad para producir nano y microestructuras de resolución muy alta en grandes obleas de hasta 300 milímetros con un volumen fácilmente escalable y bajo coste y reduciendo los pasos del proceso. Las soluciones de litografía de nanoimpresión se utilizan para crear estructuras funcionales a escala nanométrica y permiten a fabricantes de sustratos LED, láseres, microdispositivos ópticos, (bio)sensores, células solares, sistemas microelectromecánicos (MEMS), cristales fotónicos, etc. incrementar el rendimiento y reducir costes. La empresa busca compañías interesadas en desarrollar y fabricar productos nanoestructurados basados en obleas en gran volumen. La cooperación se establecerá en el marco de un acuerdo comercial con asistencia técnica.
ACTIS Cooperación Tecnológica
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